晶圆清洗机带保护膜的分划版清洗

　　进口晶圆清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。

　　NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于*进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。

　　SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

　　进口晶圆清洗机应用：

　　带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

　　Ge,GaAs以及InP晶圆片清洗

　　CMP处理后的晶圆片清洗

　　晶圆框架上的切粒芯片清洗

　　等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

　　带保护膜的分划版清洗

　　掩模版空白部位或接触部位清洗

　　X射线及极紫外掩模版清洗

　　光学镜头清洗

　　ITO涂覆的显示面板清洗

　　兆声辅助的剥离工

　　硅片和蓝宝石片清洗

　　带晶圆框架的芯片清洗

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